(시사오늘, 시사ON, 시사온=유경표 기자)

삼성전자가 올해 약 46조2000억원 규모의 시설투자 계획을 31일 밝혔다. 이는 지난해 25조5000억원과 비교해 대폭 늘어난 것이다.
 
사업별로 살펴보면, 반도체 부문은 29조5000억원, 디스플레이 부문은 14조1000억원 수준이다.
 
3분기 시설투자는 총 10조4000억원이다. 반도체에는 7조2000억원, 디스플레이에는 2조7000억원이 각각 투자됐다. 3분기 누계로는 32조9000억원이 집행됐다.
 
메모리의 경우, V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행 중이다. 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 이뤄질 전망이다.
 
오는 4분기 투자는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 것으로 전해졌다. 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 것이라고 삼성전자는 설명했다.

유경표 기자 sisaon@sisaon.co.kr이 기자의 다른기사 보기

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